詳細介紹
設備說明:
1、焊接溫度:V2型真空共晶爐實際焊接最高溫度≥450℃。
2、真 空 度:最小真空度≤3 Pa 工作真空10-200Pa。
3、有效焊接面積:≥210mm*200mm
4、爐膛高度: ≥100mm。
5、加熱方式:采用底部紅外輻射加熱,承片臺采用半導體級碳化硅鍍層石墨平臺。
6、溫度均勻性:有效焊接面積內≤±1%。
7、升溫速率:最大升溫速率120-240℃/min。
8、冷卻速率:最大冷卻速率60-120℃/min。
9、焊接空洞率:
V2型真空共晶爐在真空共晶焊接時,經過大量客戶驗證,空洞率可控制在2%以下。
10、可選正壓模塊:
設備可以選配正壓模塊≤0.3Mpa,可滿足正壓、負壓工藝要求。正壓工藝可有效解決
微小器件在焊接過程中移位問題、解決焊膏工藝助焊劑飛濺問題。
11、控溫系統及測溫系統
11.1 V2型真空采用同志科技控溫技術,控溫精度在±1℃。
11.2 V2型真空溫度曲線可設定最多40段溫度,并配置6組PID設定,更準確控制溫度,保證焊接一致性及可靠性。溫度控制屬于滯后控,而PID控制是具有超前調節的作用,可提高控溫精度以及穩定性。
11.3 V2型真空共晶爐腔體內標配2組同志科技技術的柔性測溫熱電偶,設備工作時可實時反饋腔體內任意位置的溫度,并在控制軟件中實時顯示測溫的溫度曲線,更好的保證焊接區域的溫度控制,為取得良好的工藝曲線提供支持。
12、腔體氣氛環境
V2型真空共晶爐可充入氮氣惰性氣體輔助焊接,同時滿足甲酸、氮氫混合氣體(5%氫氣95%氮氣)還原氣氛工藝。工藝氣氛可由時間或者由MFC質量流量計準確控制,保證每次設定工藝完成的一致性。設備自帶密閉廢氣排氣通道和過濾系統,通過排氣通道處理及排出,保證設備正常使用。滿足無助焊劑情況下焊接。
13、V2型真空共晶爐配置軟件控制系統:
14.1軟件控制系統基于Windows操作系統,操作簡單。
14.2可通過溫度、時間、壓力、真空等工藝條件進行工藝編程,軟件工藝自動控制整個工藝過程。
14.3工藝曲線編程的工藝動作多個,滿足復雜工藝要求。
14.4控制系統滿足各種焊接工藝曲線,并根據工藝不同進行設定、修改、存儲、調用。
14.5控制系統自帶分析功能,能對工藝曲線進行分析,確定升溫、恒溫、降溫等信息。
14.6軟件控制系統自動的實時記錄焊接工藝及控溫、測溫曲線,保證器件工藝的可追溯性,按照工藝工作時間自動存儲在相應目錄。
14、V2型真空共晶爐采用閉合式腔體結構,保證長期使用的可靠性,使用過程中關閉上蓋時不會造成器件移位,避免器件震動影響焊接質量。單腔室工藝同時滿足加熱和冷卻的要求。
15、V2型真空共晶爐,上蓋帶有視窗,可通過顯微鏡觀察器件燒結過程。上蓋自動升降,除手工取放件外,其它操作軟件自動控制完成。
部分客戶測試圖片(圖片為客戶產品請勿轉載)
1、焊接溫度:V2型真空共晶爐實際焊接最高溫度≥450℃。
2、真 空 度:最小真空度≤3 Pa 工作真空10-200Pa。
3、有效焊接面積:≥210mm*200mm
4、爐膛高度: ≥100mm。
5、加熱方式:采用底部紅外輻射加熱,承片臺采用半導體級碳化硅鍍層石墨平臺。
6、溫度均勻性:有效焊接面積內≤±1%。
7、升溫速率:最大升溫速率120-240℃/min。
8、冷卻速率:最大冷卻速率60-120℃/min。
9、焊接空洞率:
V2型真空共晶爐在真空共晶焊接時,經過大量客戶驗證,空洞率可控制在2%以下。
10、可選正壓模塊:
設備可以選配正壓模塊≤0.3Mpa,可滿足正壓、負壓工藝要求。正壓工藝可有效解決
微小器件在焊接過程中移位問題、解決焊膏工藝助焊劑飛濺問題。
11、控溫系統及測溫系統
11.1 V2型真空采用同志科技控溫技術,控溫精度在±1℃。
11.2 V2型真空溫度曲線可設定最多40段溫度,并配置6組PID設定,更準確控制溫度,保證焊接一致性及可靠性。溫度控制屬于滯后控,而PID控制是具有超前調節的作用,可提高控溫精度以及穩定性。
11.3 V2型真空共晶爐腔體內標配2組同志科技技術的柔性測溫熱電偶,設備工作時可實時反饋腔體內任意位置的溫度,并在控制軟件中實時顯示測溫的溫度曲線,更好的保證焊接區域的溫度控制,為取得良好的工藝曲線提供支持。
12、腔體氣氛環境
V2型真空共晶爐可充入氮氣惰性氣體輔助焊接,同時滿足甲酸、氮氫混合氣體(5%氫氣95%氮氣)還原氣氛工藝。工藝氣氛可由時間或者由MFC質量流量計準確控制,保證每次設定工藝完成的一致性。設備自帶密閉廢氣排氣通道和過濾系統,通過排氣通道處理及排出,保證設備正常使用。滿足無助焊劑情況下焊接。
13、V2型真空共晶爐配置軟件控制系統:
14.1軟件控制系統基于Windows操作系統,操作簡單。
14.2可通過溫度、時間、壓力、真空等工藝條件進行工藝編程,軟件工藝自動控制整個工藝過程。
14.3工藝曲線編程的工藝動作多個,滿足復雜工藝要求。
14.4控制系統滿足各種焊接工藝曲線,并根據工藝不同進行設定、修改、存儲、調用。
14.5控制系統自帶分析功能,能對工藝曲線進行分析,確定升溫、恒溫、降溫等信息。
14.6軟件控制系統自動的實時記錄焊接工藝及控溫、測溫曲線,保證器件工藝的可追溯性,按照工藝工作時間自動存儲在相應目錄。
14、V2型真空共晶爐采用閉合式腔體結構,保證長期使用的可靠性,使用過程中關閉上蓋時不會造成器件移位,避免器件震動影響焊接質量。單腔室工藝同時滿足加熱和冷卻的要求。
15、V2型真空共晶爐,上蓋帶有視窗,可通過顯微鏡觀察器件燒結過程。上蓋自動升降,除手工取放件外,其它操作軟件自動控制完成。
部分客戶測試圖片(圖片為客戶產品請勿轉載)
二、配件表
編 號 | 名 稱 | 配 置 | 數 量 | |
1 | 真空共晶爐主機 | 標配 | 1臺 | |
2 | 控溫系統(同志科技) | 標配 | 1套 | |
3 | 測溫系統(同志科技) | 標配 | 2套 | |
4 | 真空系統 | 真空泵(機械油泵) | 標配 | 1套 |
真空泵(機械干泵) | 選配 | 2.5-5.5萬/套 | ||
真空閥(日本SMC) | 標配 | 1套 | ||
真空計(睿寶) | 標配 | 1套 | ||
5 | 加熱平臺 | 標配 | 1套 | |
6 | 水冷系統(含水冷機) | 標配 | 1套 | |
7 | 氮氣氣氛系統 | 標配 | 1套 | |
8 | 甲酸氣氛系統 | 標配 | 1套 | |
9 | 氮氫混合氣氣氛 | 選配 | 2.8萬/1套 | |
10 |
真空共晶爐控制軟件系統 (同志科技軟件控制系統) |
標配 | 1套 | |
11 | 工業計算機 | 標配 | 1臺 | |
12 | MFC質量流量計 | 標配 | 1臺 | |
13 | 上加熱系統 | 標配 | 1套 | |
14 | 正壓模塊 | 選配 | 5萬/套 | |
15 | CCD視覺/顯微鏡 | 選配 | 0.6萬/套 |
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本頁關鍵詞:真空焊接爐,真空回流焊,真空共晶爐,甲酸真空共晶爐
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