真空共晶爐(vacuum soldering system)是一種針對高端產品的工藝焊接爐，例如激光器件、航空航天，電動汽車等行業，和傳統鏈式爐相比，具有較大的技術優勢。真空共晶爐系統主要構成包括：真空系統，還原氣氛系統，加熱/冷卻系統，氣體流量控制系統，安全系統，控制系統等。

產品原理

真空焊接系統相對于傳統的回流焊系統，主要使用真空在錫膏/焊片在液相線以上幫助空洞排出，從而降低空洞率。因為真空系統的存在，可以將空氣氣氛變成氮氣氣氛，減少氧化。同時真空的存在也使得增加還原性氣氛可能性。

真空去除空洞

在大氣環境下，液態狀態下的錫膏/焊片中的空氣氣泡/助焊劑形成的氣泡也處于大氣氣壓下。當外界變為真空環境，兩者之間的氣壓差可以讓在液態錫膏/焊片中的氣泡體積增大，與相鄰的氣泡合并，從而最后到達表面排出。隨后氣壓恢復，殘留其中的剩余氣泡會變小繼續殘留在體系中。

從工業生產的角度而言，有以下幾點需要指出：

絕對的高真空（某些廠家宣稱的10 -n mbar）理論上來說確實可以更大程度地減少空洞率，因為壓力差是氣泡排出的驅動力。然后抽高真空需要極長的時間，在實際生產中需要考慮。另外高于液相線的時間也需要考慮。而且事實由于生產腔體的材料表面不是完全平整，會吸附一些氣體和液相物質，達到絕對的高真空從某種程度上來說是理論可能。絕對的0%空洞率不可能達到，在生產中無法保證完全去除每一個氣泡。一般來說所謂低空洞率的要求是總空洞率<3%，最大空洞<1%。氮氣氣氛

真空系統的加入可以讓腔體在抽真空之后加入氮氣氣氛，在傳統的回流焊之中也有涉及。但是需要指出以下幾點：

氮氣的加入是排出空氣中的O2，防止氧化，在回流爐的開放環境中，并不能完全排出O2的可能性。行業認為需要將O2降至100ppm以下可以保證無氧化的可能。因此封閉體系是應用N2環境相對于合適的體系。金屬的氧化，除了有O2的存在，溫度也極為重要。所以在應用氮氣保護之時，應當保證器件溫度降至一定溫度下，才能開放體系，與O2接觸。比如，對于DCB的焊接，應當保證Cu表面溫度升至50C以上以及焊接后表面溫度下降至50C之前保證在N2環境下才能完全避免氧化。還原性氣氛HCOOH 甲酸和N2H2 合成氣

在錫膏的使用中，由于助焊劑的存在，實際上不需要還原性氣氛。真空步驟可以降低空洞率。但是考慮到助焊劑殘留/清洗成本等，有些廠家會選擇使用無助焊劑的焊片。這時需要還原性氣氛的使用。還原性氣氛可以增加焊片的濕潤性，從而從另外一個角度降低空洞率。對于常見的還原性氣氛HCOOH甲酸和N2H2合成氣，需要指出以下幾點：

兩者的作用原理都是和金屬氧化物反應，還原至純金屬，以便下一步的液化。HCOOH甲酸和金屬氧化物的反應溫度低于200C，形成甲酸金屬鹽和水，在200C以上甲酸金屬鹽分解成金屬和H2O CO2，因此HCOOH甲酸適合低熔點的合金體系H2的還原反應需要在高溫（250C）環境下進行，因此不適合低熔點的合金體系。其他

真空共晶爐的主要原理就是利用真空去除空洞，氮氣氣氛和還原性氣氛是附加條件，客戶應當根據自己的產品要求和經濟水平進行選擇。

現在存在的真空系統，主要分為

傳統回流焊+真空模塊：優點是理論來說可以在現有的回流焊產線中進行改進，缺點是除真空體系的模塊外其他部分不能完全防止氧化。單一真空模塊配合加熱冷卻裝置：優點是可以保證真空環境和氮氣氣氛，缺點是加熱冷卻由同一加熱、冷卻板完成，使用壽命短多真空模塊，單一模塊只負責加熱，焊接，冷卻步驟：優點是可以保證真空環境和氮氣氣氛，不同模塊負責不同的溫區，和傳統回流焊多腔體焊爐類似，從而最大限度保證產出效率和質量，缺點是價格較高。在線式真空共晶爐：這是完全實現在氮氣環境下預熱，然后在真空環境下共晶焊接。設備采用板式加熱，加熱效率高、氮氣消耗量很低、氧氣含量可以控制到10PPM。非常適合更高質量產品的焊接。

國內真空共晶爐生產廠家不多。目前北京中科同志科技做得不錯，和進口設備差距不大。很多上市公司使用中科同志的真空共晶爐，市場整體反饋不錯。還獲得過國家火炬計劃產業化示范項目。